財聯(lián)社9月17日訊，昨日盤后，國新辦就中國科學(xué)院“率先行動”計劃第一階段實施進展情況舉行發(fā)布會。

讓客戶滿意是我們工作的目標(biāo)，不斷超越客戶的期望值來自于我們對這個行業(yè)的熱愛。我們立志把好的技術(shù)通過有效、簡單的方式提供給客戶，將通過不懈努力成為客戶在信息化領(lǐng)域值得信任、有價值的長期合作伙伴，公司提供的服務(wù)項目有：域名申請、網(wǎng)頁空間、營銷軟件、網(wǎng)站建設(shè)、高陽網(wǎng)站維護、網(wǎng)站推廣。

發(fā)布會上，中科院院長白春禮表示：面臨美國對中國高科(600730,股吧)技產(chǎn)業(yè)的打壓，我們希望在這方面能做一些工作。我們把美國“卡脖子”的清單變成我們科研任務(wù)清單進行布局，比如航空輪胎、軸承鋼、光刻機，還有一些關(guān)鍵的核心技術(shù)、關(guān)鍵原材料等，我們爭取將來在第二期，聚焦在國家最關(guān)注的重大的領(lǐng)域，集中我們?nèi)旱牧α縼碜觥?/p>

芯片制造是我國的短板，直接制約著中國高科技企業(yè)的持續(xù)健康發(fā)展，其中光刻機作為制造芯片的核心裝備，重要程度不言而喻。

然而目前高精度的光刻機只有荷蘭、美國、日本、德國等少數(shù)企業(yè)掌握，其中荷蘭的阿斯麥公司（ASML）更是其中的龍頭老大，并已經(jīng)占據(jù)了高達80%的市場份額，壟斷高端光刻機市場。

據(jù)悉，目前最先進的EUV光刻機精度為7納米，售價曾高達1億美元一臺，且全球僅僅ASML能夠生產(chǎn)。而英特爾、三星和臺積電都是ASML的股東，享有光刻機的優(yōu)先供貨權(quán)。

與此同時，中國自主生產(chǎn)的光刻機精度約為90納米級別，與世界最先進水平大約有15年的技術(shù)差距。

其實這些年來，國內(nèi)早就有設(shè)備廠商，以及研究機構(gòu)在對光刻機進行研發(fā)。如上海微電子、中電科四十五所、中電科四十八所等。

目前我國的北斗三號芯片目前已經(jīng)成功突破了22納米的限制，它所配套的上海微電子技術(shù)也取得了重大突破，成功研制出了22nm的光刻機。

方正證券陳杭認為光刻機國產(chǎn)替代將迎來新的曙光，尤其是IC前道制造領(lǐng)域，將初步打破國外巨頭完全壟斷的局面，實現(xiàn)從0到1的突破。

建議關(guān)注以舉國之力助力國產(chǎn)替代的光刻產(chǎn)業(yè)鏈，一是光刻機核心組件：負責(zé)整體集成的上海微電子、負責(zé)光源系統(tǒng)的科益虹源，負責(zé)物鏡系統(tǒng)的國望光學(xué)，負責(zé)曝光光學(xué)系統(tǒng)的國科精密，負責(zé)雙工作臺的華卓精科，負責(zé)浸沒系統(tǒng)的啟爾機電；二是光刻配套設(shè)施：包括光刻膠，光刻氣體，光掩模版，光刻機缺陷檢測設(shè)備，涂膠顯影設(shè)備等。

下圖為光刻機產(chǎn)業(yè)鏈圖譜：

財聯(lián)社整理光刻機相關(guān)概念股包括萬業(yè)企業(yè)(600641,股吧)、張江高科(600895,股吧)、奧普光電(002338,股吧)、晶方科技(603005,股吧)、上海新陽(300236,股吧)等。

（責(zé)任編輯：冉笑宇 ）

當(dāng)前標(biāo)題：中科院表態(tài)，加快突破光刻機“卡脖子”難題，產(chǎn)業(yè)鏈迎高光時刻
網(wǎng)頁鏈接：http://m.rwnh.cn/article32/cgejsc.html

成都網(wǎng)站建設(shè)公司_創(chuàng)新互聯(lián)，為您提供建站公司、移動網(wǎng)站建設(shè)、靜態(tài)網(wǎng)站、全網(wǎng)營銷推廣、品牌網(wǎng)站制作、搜索引擎優(yōu)化

廣告

聲明：本網(wǎng)站發(fā)布的內(nèi)容（圖片、視頻和文字）以用戶投稿、用戶轉(zhuǎn)載內(nèi)容為主，如果涉及侵權(quán)請盡快告知，我們將會在第一時間刪除。文章觀點不代表本網(wǎng)站立場，如需處理請聯(lián)系客服。電話：028-86922220；郵箱：631063699@qq.com。內(nèi)容未經(jīng)允許不得轉(zhuǎn)載，或轉(zhuǎn)載時需注明來源： 創(chuàng)新互聯(lián)